Инд. авторы:	Gorobchuk A.G.
Заглавие:	Numerical modeling of plasma-chemical etching technologies
Библ. ссылка:	Gorobchuk A.G. Numerical modeling of plasma-chemical etching technologies // Ion – surface interactions (ISI–2017): Proceedings of the XXIII International Conference (Moscow, Russia, 21 – 25 August 2017). - 2017. - Moscow: National Research Nuclear University «MEPhI». - P.248-250.
Внешние системы:	DOI: 10.1134.S1063776113010093;
Издано:	2017
Физ. характеристика:	с.248-250
Конференция:	Название: XXIII Международная конференция "Взаимодействие ионов с поверхностью" Аббревиатура: ВИП 2017 Город: Москва Страна: Россия Даты проведения: 2017-08-21 - 2017-08-25 Ссылка: http://isi2017.spbstu.ru/