Цитирование: | 1. A. I. Kingon, J. P. Maria, and S. K. Strei er, Nature 406, 1032 (2000).
2. J. Robertson, Eur. Phys. J. Appl. Phys. 28, 265 (2004).
3. T. V. Perevalov and V. A. Gritsenko, Uspekhi Fiz. Nauk 180, 587 (2010).
4. Hideki Takeuchi, Daewon Ha, and Tsu-Jae King, J.Vac. Sci. Technol. A 22, 1337 (2004).
5. F. Ferrieu, K. Dabertrand, S. Lhostis et al., J. NonCryst. Sol. 353, 658 (2007).
6. J. Ni, Q. Zhou, Z. Li, and Z. Zhang, Appl. Phys. Lett. 93, 011905 (2008).
7. A. S. Foster, F. Lopez Gejo, A. L. Shluger, and R. M. Nieminen, Phys. Rev. B 65, 174117 (2002).
8. K. Xiong, J. Robertson, M. C. Gibson, and S. J. Clark, Appl. Phys. Lett. 87, 183505 (2005).
9. P. Broqvist and A. Pasquarello, Appl. Phys. Lett. 89, 262904 (2006).
10. T. David, US Patent 6, 190, 511, February 20 (2001).
11. W. Kern, RCA Rev. 31, 187 (1970).
12. H. R. Kaufman, J. J. Cuomo, and J. M. E. Harper, J. Vac. Sci. Technol. 23, 725 (1982).
13. V. A. Gritsenko, Uspekhi Fiz. Nauk 178, 727 (2008).
14. K. A. Nasyrov and V. A. Gritsenko, J. Appl. Phys. 109, 097705 (2011).
15. G. Zimmerer, Nucl. Instr. Meth. Phys. Res. A 308, 178 (1991).
16. J. Aarik, H. Mangar, M. Kirm, and L. Pung, Thin Sol. Films 466, 41 (2004).
17. V. Kiisk, I. Sildos, S. Lange et al., Appl. Surf. Sci. 247, 412 (2005).
18. T. Ito, M. Maeda, K. Nakamura et al., J. Appl. Phys. 97, 054104 (2005).
19. T. Ito, H. Kato, and Y. Ohki, J. Appl. Phys. 99, 094106 (2006).
20. A. A. Rastorguev, V. I. Belyi, T. P. Smirnova et al., Phys. Rev. B 76, 235315 (2007).
21. D. L. Dexter and J. H. Schulman, J. Chem. Phys. 22,1063 (1954).
22. A. N. Tro mov and M. V. Zamoryanskaya, J. Surf. Invest. X-ray 3, 15 (2009).
23. W. J. Zhu, T. P. Ma, S. Zafar, and T. Tamagawa, IEEE Electron Device Lett. 23, 597 (2002).
24. D. S. Jeong and C. S. Hwang, Phys. Rev. B 71, 165327 (2005).
|