Инд. авторы: Grigoryev Yu.N., Gorobchuk A.G.
Заглавие: Numerical modeling of plasma-chemical etching technology in CF4/H2 gas mixture
Библ. ссылка: Grigoryev Yu.N., Gorobchuk A.G. Numerical modeling of plasma-chemical etching technology in CF4/H2 gas mixture [Электронный ресурс] // Proceedings of 17th International Conference on the Methods of Aerophysical Research. June 30 – July 6, 2014, Novosibirsk, Russia. - 2014. - Novosibirsk: Inst. Theor. and Appl. Mech. SB RAS. - С.1-6. - ISBN: 978-5-9905592-8-8. - http://www.itam.nsc.ru/users/libr/eLib/confer/ICMAR/2014/pdf/Grigoryev%20%20Gorobchuk_41.pdf
Издано: 2014
Физ. характеристика: с.1-6
Ссылка: http://www.itam.nsc.ru/users/libr/eLib/confer/ICMAR/2014/pdf/Grigoryev%20%20Gorobchuk_41.pdf
Конференция: Название: 17th International Conference on the Methods of Aerophysical Research
Аббревиатура: ICMAR 2014
Город: Novosibirsk
Страна: Russia
Даты проведения: 2014-06-30 - 2014-07-06
Ссылка: http://conf.nsc.ru/icmar2014