Инд. авторы: | Grigoryev Yu.N., Gorobchuk A.G. |
Заглавие: | Numerical modeling of plasma-chemical etching technology in CF4/H2 gas mixture |
Библ. ссылка: | Grigoryev Yu.N., Gorobchuk A.G. Numerical modeling of plasma-chemical etching technology in CF4/H2 gas mixture [Электронный ресурс] // Proceedings of 17th International Conference on the Methods of Aerophysical Research. June 30 – July 6, 2014, Novosibirsk, Russia. - 2014. - Novosibirsk: Inst. Theor. and Appl. Mech. SB RAS. - С.1-6. - ISBN: 978-5-9905592-8-8. - http://www.itam.nsc.ru/users/libr/eLib/confer/ICMAR/2014/pdf/Grigoryev%20%20Gorobchuk_41.pdf |
Издано: | 2014 |
Физ. характеристика: | с.1-6 |
Ссылка: | http://www.itam.nsc.ru/users/libr/eLib/confer/ICMAR/2014/pdf/Grigoryev%20%20Gorobchuk_41.pdf |
Конференция: | Название: 17th International Conference on the Methods of Aerophysical Research Аббревиатура: ICMAR 2014 Город: Novosibirsk Страна: Russia Даты проведения: 2014-06-30 - 2014-07-06 Ссылка: http://conf.nsc.ru/icmar2014 |