| Инд. авторы: | Григорьев Ю.Н., Горобчук А.Г. |
| Заглавие: | Влияние структуры вч-разряда на неоднородность травления в плазмохимическом реакторе |
| Библ. ссылка: | Григорьев Ю.Н., Горобчук А.Г. Влияние структуры вч-разряда на неоднородность травления в плазмохимическом реакторе // Микроэлектроника. - 2013. - Т.42. - № 6. - С.454-462. - ISSN 0544-1269. |
| Внешние системы: | РИНЦ: 20301143; |
| Реферат: | rus: На основе численного моделирования исследуется влияние структуры ВЧ-разряда на процесс плазмохимического травления кремния в смеси CF4/O2. Расчеты выполнены с использованием математической модели неизотермического реактора, в которой движение газовой смеси описывалось уравнениями многокомпонентной гидродинамики с учетом конвективно-диффузионного переноса отдельных компонент смеси. Для определения характеристик низкотемпературной плазмы использовалась гидродинамическая модель аксиально-симметричного ВЧ-разряда, включающая уравнения непрерывности для электронов и положительных ионов, уравнение баланса энергии электронов и уравнение Пуассона для электрического потенциала. Исследовано влияние структуры ВЧ-разряда на производство и массообмен активных частиц в плазмохимическом реакторе травления.
|
| Издано: | 2013 |
| Физ. характеристика: | с.454-462 |
| Цитирование: | 1. Cherrington B.E. Gaseous electronics and gas lasers. Pergamon press: Oxford, 1980.
2. Lymberopoulos D.P., Economou D.J. Fluid simulation of glow discharges: effect of metastable atoms in argon // Journal of applied physics. 1993. V. 73. P. 3668–3679.
3. Graves D.B., Jensen K.F. A continuum model of DC and RF discharges // IEEE Transactions on plasma science. 1986. V. PS-14. P. 78–91.
4. Schveigert I.V., Alexandrov A.L. Transition between different modes of a capacitively coupled radio frequency discharge in CH4 in one- and two-dimensional PIC-MMC simulations // IEEE Transactions on plasma science. 2005. V. 33. P. 615–623.
5. Григорьев Ю.Н., Горобчук А.Г. Эффекты неизотермичности в плазмохимическом реакторе травления // Микроэлектроника. 1998. Т. 27. № 4. С. 294–303.
6. Григорьев Ю.Н., Горобчук А.Г. Особенности интенсификации травления кремния в CF4/O2 // Микроэлектроника. 2007. Т. 36. № 4. С. 283–294.
7. Горобчук А.Г., Григорьев Ю.Н. Влияние ВЧ-разряда на процесс плахмохимического травления кремния в CF4/O2 // Вычислительные технологии. 2007. Т. 12. № 5. С. 51–66.
8. Grigoryev Yu.N., Gorobchuk A.G. Numerical Simulation of Plasma-Chemical Processing Semiconductors // Micro Electronic and Mechanical Systems / Ed. by Kenichi Takahata. Publisher: In-Tech Education and Publishing, 2009. P. 185–210.
9. Scharfetter D.L., Gummel H.K. Large-signal analysis of a silicon read diode oscillator // IEEE Transactions on electron devices. 1969. V. ED-16. P. 64–77.
10. Ting Wei Tang. Extension of the Scharfetter–Gummel algoritm to the energy balance equation // IEEE Transactions on electron devices. 1984. V. ED-31. P. 1912–1914.
11. Григорьев Ю.Н., Горобчук А.Г. Численная оптимизация планарных реакторов индивидуального плазмохимического травления // Поверхность. 1996. № 2. С. 47–63.
12. Физические величины. Справочник. / Под ред. И.С. Григорьева, Е.З. Мейлихова. М.: Энергоатомиздат, 1991. 1232 c.
|