Инд. авторы: Gadiyak G.V.
Заглавие: Physical Model and Numerical Results of Dissociation Kinetics of Hydrogen-Passivated Si/SiO2 Interface Defects
Библ. ссылка: Gadiyak G.V. Physical Model and Numerical Results of Dissociation Kinetics of Hydrogen-Passivated Si/SiO2 Interface Defects // MRS. - 1998. - Vol.483. - P.503-510.
Издано: 1998
Физ. характеристика: с.503-510