Инд. авторы: Grigoryev Yu.N., Gorobchuk A.G.
Заглавие: Numerical Simulation of Plasma-Chemical Etching Reactors
Библ. ссылка: Grigoryev Yu.N., Gorobchuk A.G. Numerical Simulation of Plasma-Chemical Etching Reactors // Proceedings of 21 International conference on microelectronics, Yugoslavia. V. 2, 1997. - P.485-488.
Издано: 1997
Физ. характеристика: с.485-488