Инд. авторы: Гадияк Г.В.
Заглавие: Диффузия бора и фосфора при высокотемпературной ионной имплантации
Библ. ссылка: Гадияк Г.В. Диффузия бора и фосфора при высокотемпературной ионной имплантации // Физика и техника полупроводников. - 1997. - Т.31. - С.385-389. - ISSN 0015-3222.
Издано: 1997
Физ. характеристика: с.385-389