Инд. авторы:	Grigoriev Y.N., Gorobchuk A.G.
Заглавие:	Electron density effect on etching rate in plasma-chemical reactor
Библ. ссылка:	Grigoriev Y.N., Gorobchuk A.G. Electron density effect on etching rate in plasma-chemical reactor // Proceedings of International conference on the methods of aerophysical research (ICMAR 2008). - 2008. - Novosibirsk. - Art.V-16. - ISBN: 978-5-98901-040-0. - http://www.itam.nsc.ru/tmp/Test/5/Grigoryev.pdf
Издано:	Novosibirsk: , 2008
Ссылка:	http://www.itam.nsc.ru/tmp/Test/5/Grigoryev.pdf
Конференция:	Название: International conference on the methods of aerophysical research Аббревиатура: ICMAR2008 Город: Novosibirsk Страна: Russia Даты проведения: 2008-06-30 - 2008-07-06 Ссылка: http://www.itam.nsc.ru/icmar2008/