Влияние ВЧ-разряда на процесс плазмохимического травления кремния в CF<sub>4</sub>O<sub>2</sub>

Григорьев Ю.Н.; Горобчук А.Г.

Инд. авторы:	Григорьев Ю.Н., Горобчук А.Г.
Заглавие:	Влияние ВЧ-разряда на процесс плазмохимического травления кремния в CF₄O₂
Библ. ссылка:	Григорьев Ю.Н., Горобчук А.Г. Влияние ВЧ-разряда на процесс плазмохимического травления кремния в CF₄O₂ // Микроэлектроника. - 2007. - Т.36. - № 4. - С.283-294. - ISSN 0544-1269.
Издано:	2007
Физ. характеристика:	с.283-294