Инд. авторы:	Grigoriev Y.N., Gorobchuk A.G.
Заглавие:	Development of plasma-chemical etching model based on numerical simulation of RF discharge
Библ. ссылка:	Grigoriev Y.N., Gorobchuk A.G. Development of plasma-chemical etching model based on numerical simulation of RF discharge // Methods of Aerophysical Research (ICMAR-2010): Proceedings of XV International Conference. - 2010. - Novosibirsk. - P.114-115.
Издано:	Novosibirsk: , 2010
Физ. характеристика:	с.114-115
Конференция:	Название: XV International Conference on the Methods of Aerophysical Research Аббревиатура: ICMAR-2010 Город: Novosibirsk Страна: Russia Даты проведения: 2010-11-01 - 2010-11-06 Ссылка: http://www.itam.nsc.ru/icmar2010/second.php